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产品使用说明

第二章 光亮剂、钝化剂与各添加剂的应用

2-3 镀铬新工艺:

D-2新型宽温低浓度镀铬添加粉及新工艺
一、性能和优点:

 1、可以大幅度降低铬酸浓度,形状比较简单的另件铬酸可采用80~100克/升,形状复杂的另件铬酐可采用140~160克/升(一般采用140~160克/升)。铬酸实际消耗量仅为高铬酸镀铬的20~80%(包括吸风及另件带出量),有明显经济效益;

 2、镀层光亮度好,另件焊接部位不容易露黄;

 3、掌握适当时,深镀能力好于高铬酸镀铬;

 4、温度范围宽,在28~68℃的范围内都可以得到光亮镀层;

 5、沉积速度快,每分钟达1微米以上;

 6、不需变动原有设备;

 7、镀层耐磨性好于高铬酸镀铬;

 8、明显改善工作环境。

二、工艺及操作条件:

 1、配方

  铬酸:80~160克/升  D-2:1.2~1.5克/升

  硫酸:0.6~1.0克/升  三价铬:≤2.5克/升

  温度:28~68℃

  电流密度:7~20A/dm2(硬铬25~35A/dm2

  阴极:阳极1∶3 阴极电流效率16~22%

  阴极材料:铅锡合金,含锡量7~10%

  阴阳极距离:250~350mm

 2、操作条件:

  (1)D-2用热的铬酸溶解,同时煮沸20分钟以上,少许难溶部分不能废除丢掉,也应加入镀槽。

  (2)镀液中三价铬含量不能高于2.5克/升,新配槽液没有三价铬也能镀出合格品,最佳范围为1.5~2克/升。

  (3)阳极面积必须≥阴极面积3倍,这是保证深镀能力的关键,同时也能控制三价铬升高。

  (4)硫酸的最佳含量为铬酸:硫酸=100∶0.45~1。

  (5)D-2消耗量为铬酸耗量的1/80。

三、关于老镀液改造(如贵厂在沿用高铬酸等工艺,可按下法转换成D-2新工艺):

  1、先取样分析原镀液中三价铬及硫酸根含量,如果三价铬含量未超过5克/升、可不必处理(因稀释一半后即在工艺范围内),根据分析结果用碳酸钡把硫酸降至0.6克/升;静止8~10小时。

  2、将调整好硫酸根的清液抽至预先准备好的空槽内,把原槽清洗干净,脚污彻底排尽,同时将阳极、极棒、导电排等均清洗一遍,然后将清液抽出一半,用纯水调整CrO3浓厚为80~160克/升(一般取150克/升),

  3、取样分析槽液中Cu2+、Fe3+、Ni2+、Cl-1等有害杂质的含量(一般不能超过原高铬酸镀铬所允许的有害质量的一半)。

  4、将镀液加温至工艺范围,把计算量的D-2用热镀液在烧杯或塑料桶内溶解后逐渐倒入镀槽,充分搅拌(必须同时电解1~2小时),然后再化验一下SO42-浓度是否在工艺范围内即可试镀,D-2在镀铬溶液中的溶解度为10%。

四、镀液中添加剂含量控制

  1、由于D-2在溶液中不参于反应,消耗途径只有产品出槽时夹带出去,消耗小,因此维护比较方便,经常取样分析,根据分析结果补加到工艺范围就不会影响生产。

  2、D-2在溶液中控制还可以根据生产中出现的各种现象来判断,例如:镀液中CrO33浓度和SO42-含量均在范围内而出现如下现象时:

  (1)电流表指针偏转,即电流不稳定:简单小件可以镀得好,复杂件镀不好,镀液的深镀能力和分散能力明显下降。

  (2)产品局部没有上铬,整个或局部出现一种棕色膜或黄色膜等都说明D-2已不足,需逐次补加至正常生产。

五、注意事项:

  (1)该工艺对三价铬具有自调作用,在应用过程中一般不会因三价铬含量高或低而影响生产。

  (2)特别要控制硫酸根的含量,镀液中硫酸根的来源较多,A、生产中铬酸不断消耗补加铬酸时,硫酸根也会变化(铬酐中含有硫酸0.4%左右),C、予镀件活化时要带进一定量的硫酸根,D-2中也含有少量的硫酸根,由于硫酸根有上述四个方面的来源,因此在生产中一定要严格控制。

六、故障与排除:
故障现象 产 生 原 因 排 除 方 法
脱 膜 1、PH值低

2、钝化膜太厚

3、H2SO4过高

4、新配液Cr+3太低

1、加ZnCl2调整PH值至工艺范围

2、缩短钝化时间

3、冲稀或加碳酸钡

4、加Zn粉0.1~0.5g/L

色淡黄 1、CrO3含量低

2、PH值过高

3、催化阴离子太少

1、加至规定体积

2、加硝酸调PH值

3、加SO42-Cl-1

膜层发雾 1、镀Zn层有杂质

2、出光液抛光作用小

3、钝化液中Cr+Fe3+太高

1、处理镀液

2、补加硝酸或换出光液

3、交换溶液


CH-3 硬铬添加剂及工艺
一、简介:

 CH-3镀硬铬添加剂系引进国外先进技术,采用进口优质材料,面对国内市场研制而成。在减震器、缸套、纺织配件、活塞环、彩印制版等领域广泛应用,效果极佳,是目前市场上理想的硬铬电镀添加剂。该工艺性能稳定,高效节能,达到国际第三代最新水平。

二、特点:

 1、阴极电流效率高,可达22~27%;

 2、不腐蚀阴极低电流密度区的底材;

 3、镀层平滑、细致、光亮、均匀;

 4、镀层硬度可达HV1000以上;

 5、微裂纹数高,可在400条/厘米以上;

 6、沉积速度快,29.9~128um/h;

 7、电流范围宽:达20~100A/dm2

 8、镀液稳定,维护容易,控制简单。

三、电镀工艺规范:

  范围  标准
铬酐CrO3 220~270g/l 250g/l
硫酸H2SO4 2.5~4.0g/l 2.5g/l
三价铬 2~4g/l 2.5g/l
CH-3A 18~20ml/l(开缸时一次加入)  
电流密度 30~75A/dm2 60A/dm2
温度 55~60℃ 58℃  
阴阳极面积比1∶2~3    
正式生产后补加CH-3B    
     

四、镀液配制:

 1、用镀液的总体积60%的去离子水或蒸馏水将铬酐溶解;

 2、添加去离子水或蒸馏水至所需之液位高度;

 3、加热至55~60℃;

 4、取样分析硫酸浓度并调整至工艺范围;

 5、搅拌槽液慢慢把CH-3A加入到镀液中,搅拌均匀;

 6、电解、试镀、电解4~6小时产生一定量的三价铬;

 7、加入适量的铬雾抑制剂;

 8、正式电镀作业。

五、补加方法:

  按以下两种方法选用一种:

(一)正式生产时,用CH-3B5.0~5.5ml或浓缩剂3.0ml~3.5ml/KAH补加。

(二)用45公斤铬酐加去离子或蒸馏水慢慢加入CH-3B1500ml配成100升,或用50公斤铬酐加去离子水或蒸馏水慢慢加入CH-3B浓缩剂1000ml配成110升。正式生产按350ml/KAH补加(也可保持铬酐浓度补加)。

六、沉积速度(参考):

电流密度(安培/平方分米) 沉积速度(微米/小时)
30 20~30
45 40~50
60 50~70
75 70~90

七、转缸

  同普通镀液转化本工艺电镀液非常方便,只需无机杂质不超过7.5g/l。且不含氟化物(包括“稀土添加剂”)。

八、其他:

 1、建议使用含锡7%左右的铅阳极;

 2、CH镀铬液镀前处理和后处理与普通镀铬相同;

 3、本公司生产铬酐经过净化处理过的含铬酐450g/l开缸液和添加液,欢迎厂家使用。

锡钴锌三元合金代铬工艺“代铬-2000”添加剂

一、配方:

 氯化亚锡  20g/L

 氯化钴   6g/L

 氯化锌   12g/L

 焦磷酸钾  120g/L

 添加剂   20g/L

 温度 常温

 电流密度 0.5~2A/dm2

 阳极    0号锡板

 PH     8.2~8.8

二、配制方法:

 将计算量的焦磷酸钾用水溶解,加入活性炭过滤,然后加入计算量的氯化亚锡、氯化钴、氯化锌搅拌至完全溶解,然后加入光亮剂,用水稀释至规定体积,电解试镀。

 配槽成本  3.8元/升

三、各个成份对镀液的影响:

1、SnCl2氯化亚锡

  氯化亚锡是代铬工艺中主盐,镀层中含Sn量为85%,氯化亚锡含量高镀层显白,过高低Du处灰白。

  氯化亚锡含量低,镀层暗。由于Sn-Co-Zn三元合金中Sn以Sn+2形式存在,所以镀液中Sn+2会被空气氧化。所以在正常生产时,有时也要加入SnCl2来调整Sn”规定标准。由于隔了几天才生产,在生产之前要对镀液进行电解,一般要进行电解数小时,电解时,阴极要小,阳极要大一些,因为,阳极大时,SnCl2易溶解,通过化学分析方法,可对Sn2+进行化验。

2、CoCl2氯化钴

  CoCl2也是镀液中主盐,CoCl2高,镀层暗,严重时会发黑,CoCl含量低,低Du处发黑雾状。

  因此通过化验成份或赫尔槽试验进行控制。一般含量在10g/L以下,2~10g/L之内。

3、ZnCl2氯化锌

  代铬镀液中如果没有ZnCl2,颜色不象铬,加入ZnCl2后镀层有铬层一样的青光色。

  ZnCl2含量一般在8~12g/L

  通过化验或Hull试验来进行控制

  ZnCl2高、镀层有灰色条纹

  ZnCl2太少,低Du处有灰雾。

3、K4P2O7焦磷酸钾

  焦磷酸钾是镀液中络合剂,镀液中焦磷酸钾含量高,分散能力高,镀液稳定,太高,则电流效率会降低。

焦磷酸钾含量低,低Du处显灰雾。

通过化验方法或Hull试验来进行控制其含量在工艺范围内。

5、添加剂“代铬-2000”

添加剂中含有络合剂和表面活性剂,在镀液中消耗较少,一般正常生产时,5公斤可用一个月左右。

添加剂少时,光亮范围狭,高Du处发黑。

通过赫尔槽试验可以确定添加剂含量是否在工艺范围。

四、赫尔槽(Hull槽)试验情况说明:

正常情况下Hull样板

发黑 发灰 暗亮
高Du   1=0.5A常温 低Du

1、SnCl2少、CoCl2

发黑 发灰 暗亮
高Du   1=0.5A常温 低Du

2、CoCl2

发黑 发灰 暗亮 黑雾或样板反面有黑雾

3、ZnCl2少、K4P2O7少

发黑 发灰 暗亮

五、工艺维护:

1、二班正常生产时

 CoCl2 3天加一次  每次加入1g/L

 ZnCl2 2天加一次  每次加入3g/L

 SnCl2 2天加一次  每次加入3g/L

(每天生产结束时,可以进行电解,以增加Sn2+含量)镀液中加入CoCl2、ZnCl2 、SnCl2 时,先用1∶3左右焦磷酸钾溶解后加入。平时,将工业级焦磷酸钾加入1g/L活性炭过滤后放入一桶内备用。

2、大处理时,不能在代铬液加入活性炭处理。

一般静止一段时间,槽底的垃圾倒掉,补充一些新的镀液。

六、故障现象和处理方法:

1、镀层发暗

原因:①SnCl2少,或者甲②CoCl2

解决方法:①电解或加入SnCl2;②电解处理

2、滚镀时镀层发黑雾

原因:①CoCl2 太少,

解决方法:①增加CoCl2 含量

3、滚镀时,镀层发灰雾

原因:①ZnCl2少 解决方法:①增加ZnCl2 含量

②K4P2O7少 解决方法:②增加K4P2O7

4、光亮范围狭

原因:光亮剂少

措施 加入光亮剂

以上方法,先用赫尔槽试验进行确定,然后在赫尔槽中进行补充,再进行赫尔槽试验,确定原因后再进行大槽调整。

代铬工艺是一个稳定工艺,可以连续进行生产,平时要每天做Hull试验,通过赫尔槽来进行调整管理。

 

 

 

 


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